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一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备.pdf

    本发明公开了一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备，包括壳体、薄膜和箱体，所述壳体的内侧设置有第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷，所述壳体的内侧固定连接有三个安装座，每个所述安装座的内表面设置有靶电极，三个所述安装座分别位于所述第一导辊、第二导辊和第三导辊的外侧，所述薄膜分别与第一收放卷、第一导辊、第二导辊、第三导辊和第二收放卷接触，所述壳体上开设有两个对称分布的通槽，所述薄膜分别穿过两个通槽且延伸至壳体的外侧，本发明涉及一种多靶材双面镀膜磁控溅射卷绕镀膜设备，具有提高薄膜质量

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112695289 A (43)申请公布日 2021.04.23 (21)申请号 202011510439.0 (22)申请日 2020.12.18 (71)申请人 盐城工学院 地址 2

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