TiN去除液.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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本发明涉及一种TiN去除液。该去除液由氧化剂、pH缓冲剂、添加剂A、添加剂B和去离子水组成。氧化剂为H2O2,pH缓冲剂为有机酸及有机酸盐混合物,添加剂A为过硫酸盐,能够提高对TiN层的蚀刻速率,添加剂B为酚磺酸、醇类、金属掩蔽剂的混合物。其中TiN先被H2O2氧化成TiO2,再由水合氢离子将TiO2溶解。pH缓蚀剂通过调节溶液的pH,使其维持酸性环境,减缓了H2O2的分解,增强其稳定性,延长了蚀刻液寿命及对TiO2的溶解速率。添加剂A增强了TiN的蚀刻速率,使得TiN层能快速的去除,且没有残留

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115141629 A (43)申请公布日 2022.10.04 (21)申请号 202210674335.6 (22)申请日 2022.06.15 (71)申请人 湖北兴福电子材料有限公司

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