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等离子体刻蚀装置及其初始化系统和初始化方法.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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等离子体刻蚀装置及其初始化系统和初始化方法.pdf

    一种等离子体刻蚀装置及其初始化系统和初始化方法，所述等离子体刻蚀装置包括：刻蚀组件，用于对晶圆或晶圆上的膜层进行刻蚀，所述晶圆包括边缘区域；承载台，用于承载所述晶圆，所述承载台承载晶圆的面为支撑面；控制环，环绕承载台且位于所述支撑面的下方，所述控制环与承载台的支撑面平行，所述控制环的环面与边缘区域的位置相对应且沿径向覆盖所述边缘区域；调节装置，包括位于所述控制环下方的基台，以及位于所述基台上沿控制环的圆周方向分布的多个针脚，所述针脚与控制环的底面相接触，所述针脚突出基台的部分具有支撑高度，支撑高

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112750675 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 20191

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