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- 2023-06-05 发布于四川
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本申请涉及光致抗蚀剂显影剂和使光致抗蚀剂显影的方法。具体地，本申请涉及一种在光致抗蚀剂中形成图案的方法，其包括在基板上形成光致抗蚀剂层；以及使所述光致抗蚀剂层选择性地曝光于光化辐射以形成潜在图案。所述潜在图案通过如下显影：将显影剂组合物施加至经选择性曝光的光致抗蚀剂层以形成图案。所述显影剂组合物包含第一溶剂，所述第一溶剂的汉森溶解度参数为15
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112748647 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 202011197807.0
(22)申请日 2020.10.30
(30)优先权数据
62/928,95
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