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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明公开了一种厚膜光刻胶显影工艺，属于光刻胶显影工艺技术领域。该工艺首先在转动的晶圆表面用单个显影喷头喷显影液；去离子水冲洗后旋转甩去多余的去离子水；然后采用扫描式显影喷头喷洒显影液；采用动态显影方式进行显影；用去离子水冲洗显影液及反应残留物后甩干。该工艺可以让显影液与厚膜光刻胶进行充分的反应，使晶圆无光刻胶残留，并完全去除显影过程中产生的残渣，以有效地减少线宽中的缺陷，该方法能够改善显影线宽不均匀现象，减少显影过程中的缺陷数量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112748646 A
(43)申请公布日
2021.05.04
(21)申请号 20191
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