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本发明公开了一种TFE遮罩免清洗结构及工艺方法，涉及薄膜封装技术领域。所述TFE遮罩免清洗结构包括：界面保护层，形成于所述TFE遮罩上方，用于保护TFE遮罩表面的平整性，防止后续制程对TFE遮罩表面的腐蚀和破坏而引起精度偏差；剥离层，形成于所述界面保护层上方，所述剥离层耐高温且化学性能稳定，用于隔绝绝缘，且在激光照射下或在蚀刻液作用下可剥离。本发明提供的一种TFE遮罩免清洗结构及工艺方法，节省了TFE遮罩阳极氧化的工艺，节省大量的制造成本，避免清洗废料对环境的污染。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115747753 A
(43)申请公布日 2023.03.07
(21)申请号 202211383809.8 C23C 16/50 (2006.01)
(22)申请日 2022.11.
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