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本发明属于半导体测试测量领域,并具体公开了一种偏振反射测量系统及结构参数测量方法,其包括从上至下同轴设置的光谱仪探测器、聚焦透镜、第一分光镜、第二分光镜、偏振片、反射式物镜和样品台,第一分光镜一侧设有照明光源、管镜和CCD相机,照明光源的照明光经过第一分光镜、第二分光镜、偏振片、反射式物镜、待测样品,然后原路返回,经管镜汇聚到CCD相机中成像;第二分光镜一侧设置有测量光源和准直透镜,测量光源的测量光经过准直透镜、第二分光镜、偏振片、反射式物镜、待测样品上,然后原路返回至第二分光镜,并由聚焦透镜导
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112730266 A
(43)申请公布日 2021.04.30
(21)申请号 202011488791.9
(22)申请日 2020.12.16
(71)申请人 华中
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