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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明提供一种用于处理晶圆的等离子体处理系统以及其制备方法。所述系统包括:静电吸盘;以及围绕所述静电吸盘的边缘环组件。所述边缘环组件包括:介电环,其具有顶表面,与所述顶表面相对的底表面以及从顶表面向上延伸的突起;和嵌设在所述介电环的突起中的线圈,所述线圈具有多个循环,所述多个循环中的每一者相对于所述介电环的所述底表面具有不同的距离。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112713076 A
(43)申请公布日
2021.04.27
(21)申请号 20201
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