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一种针对半导体的双工位砂纸抛光装置及其抛光方法，包括：安装在机架上的支架模组，产品入料流道，产品出料流道，产品上料模组，下料模组，前上砂纸模组，前打磨治具，前打磨头，后上砂纸模组，后打磨治具以及后打磨头。有效避免了现有技术中采用手抛机对芯片环氧树脂进行研磨抛光而对芯片环氧树脂进行研磨效率低下、费时费力的缺陷。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112720083 B
(45)授权公告日 2022.02.11
(21)申请号 202011621007.7 B24B 29/02 (2006.01)
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