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一种掩膜刻蚀制备亚波长周期性阵列的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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一种掩膜刻蚀制备亚波长周期性阵列的方法.pdf

    本发明属于微纳米材料光学领域，具体涉及一种玻璃表面修饰掩膜进行刻蚀亚波长周期性阵列的方法。一种掩膜刻蚀制备亚波长周期性阵列的方法，包括以下步骤：将硅酸盐玻璃原片分别用丙酮、乙醇、去离子水、乙醇清洗、烘干；用匀胶机选取乙醇乙二醇分散好的二氧化硅分散液，其中二氧化硅小球直径在200‑500nm；待分散液中溶剂挥发完成；在等离子体刻蚀仓中进行刻蚀，刻蚀气体CHF3、CF4任意一种或二者的组合，流量为45‑80sccm，刻蚀功率为75‑90W；清洗、烘干。本发明的优点在于：工艺简单；可以在不同种类的玻璃

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112758887 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 202110011281.0 (22)申请日 2021.01.05 (71)申请人 南京大学 地址 21

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