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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开了一种45度硅反射镜的设计制造结构以及制造方法，包括晶面硅片衬底，所述硅片衬底正面设置有多组腐蚀坑，所述硅片衬底的底面在靠近每两个腐蚀坑之间均设置有矩形槽，所述晶面硅片衬底在靠近腐蚀坑和矩形槽的底面均竖直设有切割道，且所述切割道的中心轴线分别与腐蚀坑和矩形槽的中心轴线相互重合。该种45度硅反射镜的设计制造结构，降低了成本，提高了器件的可靠性能，硅基材料的芯片上制作的反射镜，它具有尺寸小，产出率高，成本低、重复性好、热学性能稳定等的优点，由于是45度角，平行光入射进去，垂直入射出来，光路
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112764144 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202110112873.1
(22)申请日 2021.01.27
(71)申请人 上海矽安光电科技有限公司
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