等离子体处理室.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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提供了一种用来当作等离子体处理室的一部分的部件,所述等离子体处理室用于处理晶片。所述部件包含掺杂有钨、钽或硼中的至少一者的硅碳化物部件主体。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805805 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980065528.8 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263

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