1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

基片温度稳定装置及方法、光刻系统.pdfVIP

  • 3
  • 0
  • 约1.79万字
  • 约 14页
  • 2023-06-06 发布于四川
  • 举报

基片温度稳定装置及方法、光刻系统.pdf

    本发明提供基片温度稳定装置及方法、光刻系统。所述基片温度稳定装置包括设置在基片上片路径上第一工位的第一温度稳定模块和设置在基片上片路径上第二工位的第二温度稳定模块，从而可以在基片位于第一工位和第二工位的时间段内分别对基片进行温度稳定操作，分段调节可以增加对同一基片的温度稳定操作时间从而有助于提升上片后基片的温度稳定性和片内温度均一性，并且，由于两段温度稳定操作分别在不同工位执行，温度稳定操作的总时间增加对上片时间的影响小，有助于提高上片效率。所述温度稳定方法与所述基片温度稳定装置具有类似的效果。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112799283 B (45)授权公告日 2022.04.15 (21)申请号 201911032185.3 (51)Int.Cl.

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >