基片载置台和基片处理装置.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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本发明提供一种具有制冷剂用的流路的部件,其包括:形成有上述流路的基座;和设置在上述流路内的能够升降可能或旋转的突起状部件。由此,不进行设计变更,就能够进行用于实现基片温度的均匀性的修正。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112768336 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 202110174995.3 H01L 21/687 (2006.01) (22)申请日

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