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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明提供一种用于量测过程或光刻过程的设备，所述设备包括：适于保持衬底的物体支撑模块；第一气体喷淋器，所述第一气体喷淋器布置在所述物体支撑模块的第一侧上，并且适于在是水平方向的第一气体方向上以第一速度发射气体，以使得在所述设备中的净气流是至少在所述物体支撑模块上方的在所述第一气体方向上的基本上水平的气流。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115769149 A
(43)申请公布日 2023.03.07
(21)申请号 202180040800.4 迈克尔 ·约翰内斯 ·克里斯蒂安 ·
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