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本发明涉及半导体封装件以及相关方法。实施例公开了一种用于形成半导体封装件的方法,该方法包括提供与第一金属层耦接的第一绝缘体层。凹槽形成于该第一金属层中,并且半导体管芯机械地耦接在其中。该管芯与第二金属层机械地耦接,并且该第二金属层与第二绝缘体层耦接。该管芯和该层被至少部分地密封以形成该半导体封装件。该第一金属层和/或该第二金属层可为绝缘体‑金属衬底、金属‑绝缘体‑金属(MIM)衬底,或者可由引线框架形成。在实施方式中,该封装件不包括该管芯与该第一金属层之间的间隔件,并且不包括该管芯与该第二金属层
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112786456 A
(43)申请公布日 2021.05.11
(21)申请号 202011210389.4 H01L 23/31 (2006.01)
(22)申请日 2
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