药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法、半导体芯片的制造方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法、半导体芯片的制造方法.pdf

本发明提供一种在用作显影液或冲洗液时,能够形成图案间隔的偏差得到抑制的抗蚀剂图案的药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法及半导体芯片的制造方法。本发明的药液含有乙酸正丁酯及乙酸异丁酯,所述药液中,相对于药液总质量,乙酸正丁酯的含量为99.000~99.999质量%,相对于药液总质量,乙酸异丁酯的含量为1.0~1000质量ppm。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805628 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980064889.0 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任

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