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具有深度调制角度光栅的光学组件及其形成方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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具有深度调制角度光栅的光学组件及其形成方法.pdf

    一种在基板中形成斜角结构的方法。所述方法可包括通过在设置于所述基板的基板基底上的掩模层中蚀刻斜角掩模特征而形成掩模的操作，所述斜角掩模特征具有相对于所述基板的主表面的垂直线以非零倾斜角定向的侧壁。所述方法可包括在所述掩模就位的情况下蚀刻所述基板，所述蚀刻包括引导轨迹相对于所述主表面的垂直线以非零入射角布置的离子。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805812 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980065792.1 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理

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