带温度维持装置的隔离环.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开了一种带温度维持装置的隔离环,设置于等离子体处理装置内,等离子体处理装置包括由多个壁围成的反应腔,反应腔的上部设置有用于引入气体至反应腔内的气体喷淋头,反应腔的下部设置有用于承载基片的基座,气体喷淋头与基座之间形成有对基片进行处理的等离子体,隔离环环绕于气体喷淋头并限制等离子体于隔离环所设有的壁体内,隔离环包括靠近等离子体的内隔离环及环绕内隔离环的外隔离环,内隔离环与外隔离环之间设置有温度维持装置,用于保持内隔离环温度以防止聚合物沉积于内隔离环表面,此带温度维持装置的隔离环可持续保持高

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112802729 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 20191

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