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三维微纳结构光刻系统及其方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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三维微纳结构光刻系统及其方法.pdf

    一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112799286 B (45)授权公告日 2022.04.22 (21)申请号 201911115238.8 (51)Int.Cl.

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