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- 2023-06-07 发布于四川
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一种抛光组合物包括:磨料;pH调节剂;阻挡膜移除速率增强剂;第一低k移除速率抑制剂;第二低k移除速率抑制剂;含唑腐蚀抑制剂;及钴腐蚀抑制剂。本公开涉及使用本文所述的抛光组合物抛光包含钴的基底的方法。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112840003 A
(43)申请公布日 2021.05.25
(21)申请号 202080003981.9 (74)专利代理机构 北京博思佳知识产权代理有
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