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薄膜材料概述;Leading Physical Property Analysis of Thin-Film Materials;;可能最早的纳米薄膜:古代铜镜表面的防锈层(纳米氧化锡薄膜)
其年代可以追溯到商代,甚至更早;薄膜的历史,要追溯到三千多年以前。
近30年来,真正作为一门新型的薄膜科学与技术。
目前,薄膜材料已是材料学领域中的一个重要分支,它涉及物理、化学、电子学、冶金学等学科,在国防、通讯、航空、航天、电子工业、光学工业等方面有着特殊的应用,逐步形成了一门独特的学科“薄膜学”。;;;;;;Leading Physical Property Analysis of Thin-Film Materials;;;;;;;; 在被溅射的靶极(阳极)与阴极之间加一个正交磁场和电场,电场和磁场方向相互垂直。当镀膜室真空抽到设定值时,充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加几百伏电压,便在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,氩气被电离。在正交的电磁场的作用下,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,电子的运动被限制在一定空间内,增加了同工作气体分子的碰撞几率,提高了电子的电离效率。电子经过多次碰撞后,丧失了能量成为 “最终电子”进入弱电场区,最后到达阳极时已经是低能电子,不再会使基片过热。同时高密度等离子体被束缚在靶面附近,又不与基片接触,将靶材表面原子溅射出来沉积在工件表面上形成薄膜。而基片又可免受等离子体的轰击,因而基片温度又可降低。更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。?;;;;;;;;;;;;;;Leading Physical Property Analysis of Thin-Film Materials;;;;;;;;;;;;Leading Physical Property Analysis of Thin-Film Materials;;;;;;;;;;;;;;感谢观看!
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