高频磁性膜、其制造方法及用途.pdfVIP

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2023-06-08 发布于四川
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高频磁性膜、其制造方法及用途.pdf

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多层膜(10)包括：基底(12)；设置在基底上的第一磁性层(14)以及设置在第一磁性层(14)上的第二磁性层(16)。第一磁性层(14)包含Fe(50‑80)N(10‑20)B(1‑20)M(0‑10)，其中M为Si、Ta、Zr、Ti、Co、或其组合。第二磁性层(16)包含Fe(50‑90)N(10‑50)或Fe(60‑90)N(1‑10)Ta(5‑30)。在50MHz至10GHz的频率范围，多层磁性膜(10)：在该频率范围内的选定频带上具有大于或等于1800的磁导率；在该频率范围内的选定频带上

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112868074 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 201980069446.0 (74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限