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本发明涉及一种微透镜阵列制备方法,其包括以下步骤:S1、提供已涂布有光刻胶的基板,在基板上调用预置的直写光刻程序以对其进行数字掩模激光直写光刻,以制备获得N台阶柱体光刻胶阵列;S2、将步骤S1得到的N台阶柱体光刻胶阵列依次进行后烘、显影、烘干;S3、将步骤S2得到的N台阶柱体光刻胶阵列进行热熔,制备获得微透镜阵列。该制备方法采用数字掩模激光直写光刻方法和光刻胶热熔法相结合的加工技术,无需制备实体掩模版,通过增多可控参量数目来提高对得到的微透镜表面可控性,可制备微透镜阵列,该方法工艺简单、加工效率
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112859210 A
(43)申请公布日
2021.05.28
(21)申请号 20191
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