光掩膜版及其制作方法.pdfVIP

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一种光掩膜版及其制作方法,其中所述制作方法包括:提供透明基板,所述透明基板包括第一表面和与第一表面相对的第二表面;在所述透明基板的第一表面上形成多个分立的遮蔽图形;在所述相邻遮蔽图形的之间的透明基板的第二表面上形成线状的微透镜,所述线状的微透镜用于将从所述第二表面入射的曝光光线更多的汇聚到相邻遮蔽图形的之间的透明基板的第一表面。在采用本申请的光掩模版进行曝光时,通过所述线状的微透镜可以将从所述第二表面入射的曝光光线更多的汇聚到相邻遮蔽图形的之间的透明基板的第一表面(或者汇聚到遮蔽图形之间的透光区

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116224712 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202310025669.5 (22)申请日 2023.01.09 (71)申请人 睿晶半导体(宁波)有限公司 地址

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