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- 2023-06-09 发布于四川
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本发明公开了一种适用于高功率束流的薄膜降能器,包括真空管,位于所述真空管内部、且内部中空的铜基座,环绕安装在所述铜基座内部的冷却水装置,设置在铜基座内部的薄膜,和设置在所述真空管管壁上、支撑固定所述铜基座的支撑底座,所述铜基座与所述真空管同轴设置,本发明通过在铜基座内部设置冷却水装置,冷却水装置能够跟设置在铜基座内的薄膜进行热交换,吸收沉积在薄膜中的热量,降低薄膜的热负载,使薄膜能够正常工作,进而保证在高功率束流下降能器的正常使用。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112911783 A
(43)申请公布日 2021.06.04
(21)申请号 202110319140.5
(22)申请日 2021.03.25
(71)申请人 四川大学
地址 61
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