红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法.pdfVIP

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2023-06-11 发布于四川
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红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法.pdf

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本发明公开了一种红外光学系统杂散辐射的分析方法和抑制方法，红外光学系统杂散辐射的分析方法，包括：基于红外光学系统，在杂散光分析软件中构建光机分析模型，并对光机分析模型中的各个光机部件进行表面属性定义；通过在光机分析模型中设置探测器表面光源，在所述光机分析模型外设置远场接收器，对红外光学系统进行逆向光路追迹，以分析外部杂散辐射的入射角度和光线路径。采用本发明，可以实现红外光学系统外部杂散辐射的快速、全面分析，有助于提出有效的抑制措施，最终明显消除或抑制外部杂散辐射对红外成像系统的影响。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113008377 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 202110196136.4 (22)申请日 2021.02.22 (71)申请人中国电子科技集团公司第十一研究

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