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2023-06-11 发布于四川
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一种影像感测件、光学结构及其形成方法，光感元件可形成在半导体基材的前侧。具有第一折射率的光学折射层可形成在半导体基材的背侧。包含开口的栅格结构形成在光学折射层上。遮蔽材料层形成在栅格结构及光学折射层上。利用非等向性蚀刻制程对遮蔽材料层进行非等向性蚀刻，并连带蚀刻光学折射层的材料，以于光学折射层的物理暴露区形成非平面远端表面部分，其中此些非平面远端表面部分包含随机突出部。光学透明层可形成于光学折射层的非平面远端表面部分，且光学透明层具有不同于第一折射率的第二折射率。折射界面将入射光折射至随机方向，

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112992946 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202011479301.9 (22)申请日 2020.12.15 (30)优先权数据 16/715,31

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