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- 2023-06-11 发布于四川
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本发明提供光掩模及显示装置的制造方法。在制造具有包括遮光部、半透光部及透光部的转印用图案的光掩模时,准备在透明基板(1)上层叠了半透光膜(2)、中间膜(3)及遮光膜(4)而成的光掩模坯体,通过蚀刻将成为遮光部的区域以外的区域的遮光膜(4)去除,然后形成抗蚀剂膜(6)。接着,对抗蚀剂膜(6)进行描画及显影而形成了抗蚀剂图案(6a),然后通过蚀刻将半透光膜(2)去除。半透光膜(2)和遮光膜(4)都由Cr类材料形成,在将与透光部及半透光部分别相邻的遮光部设为中间遮光部时,在抗蚀剂图案形成工序中形成具有
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113009777 A
(43)申请公布日 2021.06.22
(21)申请号 202110239537.3 G03F 1/80 (2012.01)
(22)申请日 20
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