反射式光掩模及其制作方法.pdfVIP

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  • 2023-06-12 发布于四川
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本发明实施例提供一种制作掩模底版的方法包括在衬底的上方沉积反射性多层;在所述反射性多层的上方沉积顶盖层;在所述顶盖层的上方沉积吸收体层;以及在所述吸收体层的上方沉积减反射涂布层。所述减反射涂布层是单一材料膜。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 109426065 A (43)申请公布日 2019.03.05 (21)申请号 20171

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