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本发明涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种磁控溅射镀膜装置，包括真空箱、电导棒、工件、气泵和电机，所述电导棒位于真空箱的顶部，所述电导棒上活动套接有活动架，所述活动架与真空箱的顶部活动连接，所述真空箱的上表面固定安装有涡轮蜗杆。通过换件室和皮带轮的设置，使得可将工件直接安放在皮带轮上送入真空箱中进行镀膜，利用阻隔装置将真空箱与换件室之间通道进行隔断，有效减小真空箱内部气压的波动，利用三者之间的配合，实现连续不间断的进行换料，使得镀膜过程持续不间断，有效避免重复停开机带来的能量消耗，降低镀膜成本，并
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113025978 A
(43)申请公布日 2021.06.25
(21)申请号 202110213434.X
(22)申请日 2021.02.26
(71)申请人 张鹏成
地址 075
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