阻抗匹配方法、半导体工艺设备.pdfVIP

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2023-06-13 发布于四川
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阻抗匹配方法、半导体工艺设备.pdf

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本发明提供一种半导体工艺设备的阻抗匹配方法，包括：电容值确定阶段，检测工艺腔室中发生起辉且匹配器完成自动匹配后匹配器中多个电容的稳定电容值；匹配阶段，将匹配器中一个电容的电容值调节为对应的起辉电容值，并将其余多个电容的电容值调节为对应的稳定电容值，电容的起辉电容值小于电容的稳定电容值；启动电源，并将一个电容的电容值由起辉电容值调节至电容的稳定电容值。本发明提供的阻抗匹配方法能够实现快速稳定起辉，降低匹配器的匹配时间，提升工艺结果的一致性。本发明还提供一种半导体工艺设备。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113066712 A (43)申请公布日 2021.07.02 (21)申请号 202110308102.X (22)申请日 2021.03.23 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司

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