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本发明公开了一种冲击波测量靶准静压标定用膜片室及系统,解决了产生测量靶准静态标定所需准静态均布载荷的技术问题。所公开的膜片室包括气室上基体和气室下基体及设置在两者之间气室,所述气室方法设膜片安装部,气室底部设气体进口,侧部设气体出口。所公开的系统包括膜片室、供气瓶及缓冲气瓶。本发明装置能够使膜片处于周边固支状态,并施加准静态均布载荷,使膜片缓慢变形;且装置操作简单,标定快捷,标定压力可控,可以在0~5MPa的压力范围内对不同尺寸的测量靶膜片进行标定。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113091974 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202110284029.7
(22)申请日 2021.03.17
(71)申请人 西安近代化学研究所
地
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