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本发明涉及一种基于应力发光材料的可重复记忆型应力薄膜的制备方法,属于应力发光材料技术领域。本发明将高纯的CaCO3、Ga2O3、Bi2O3和Tm2O3进行研磨混匀得到混合粉料A;混合粉料A置于温度为1200~1250℃、氧化气氛中高温烧结10~12h,研磨得到CaGa2O4:Bi3+,Tm3+应力发光粉;CaGa2O4:Bi3+,Tm3+应力发光粉与PMMA胶体混合均匀得到混合液体,混合液体置于模具中,保鲜膜包覆后加热固化模具中的胶体,得到可重复记忆型应力薄膜。本发明可重复记忆型应力薄膜具有较高
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113087946 B
(45)授权公告日 2021.12.14
(21)申请号 202110371849.X C08L 33/12 (2006.01)
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