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一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法.pdfVIP

一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法.pdf

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    本发明提供了一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法，该上盘装置包括第一微调机构和第二微调机构，第一微调结构用于基准侧面的调整量的确定，第二微调机构用于根据调整量光胶上盘。通过该上盘装置实施激光陀螺腔体在方砖上的上盘，满足了陀螺腔体基准侧面的高效精准抛光，即使激光陀螺腔体省略了前期机械加工和光学加工的穿叉工序，仅加工了一个基准大面，也能够通过后续基准侧面的抛光快速有效实现粘贴面的精确加工，为低成本、小体型和高精度的激光陀螺腔体的高效加工创造了条件。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113084682 B (45)授权公告日 2022.04.22 (21)申请号 202110303947.X B24B 49/00 (2012.01)

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