刻蚀方法及刻蚀设备.pdfVIP

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2023-06-13 发布于四川
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刻蚀方法及刻蚀设备.pdf

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本公开实施例公开了一种刻蚀方法和刻蚀设备，所述刻蚀方法包括：沿遮罩层中的第一开口和第二开口，采用第一刻蚀气体对介质层同时进行第一刻蚀，形成具有第一深度的第一凹槽和具有第二深度的第二凹槽；其中，所述第一开口的开口尺寸大于所述第二开口的开口尺寸，所述第一深度大于所述第二深度；采用第二刻蚀气体对所述第一凹槽和所述第二凹槽同时进行第二刻蚀，以将所述第一凹槽的深度从所述第一深度增加为第三深度，并将所述第二凹槽的深度从所述第二深度增加为第四深度；其中，所述第三深度等于所述第四深度，所述第二刻蚀气体对所述第一

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113113302 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110265900.9 (22)申请日 2021.03.11 (71)申请人武汉光迅科技股份有限公司