避免沉积副产物积聚的真空泵保护.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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避免沉积副产物积聚的真空泵保护.pdf

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一种处理室(例如等离子体蚀刻室)可执行沉积和蚀刻操作，其中沉积和蚀刻操作的副产物可能在与处理室流体耦合的真空泵系统中积聚。真空泵系统可具有多个粗抽泵，使得蚀刻气体可被分流至一粗抽泵而沉积前体可被分流至另一粗抽泵。分流管线可将未使用的沉积前体引导通过分离的粗抽泵。通过在真空泵系统中的初级泵的出口处包含一或更多个气体喷射器或文丘里泵，可避免沉积副产物形成。使用某些清洁化学品的清洁操作(例如无晶片自动清洁操作)可在蚀刻操作之前或之后将沉积副产物去除。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113169094 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980078104.5 约翰 ·爱德华 ·多尔蒂　