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本发明涉及一种用于将铬或铬合金层沉积于至少一个基板上的方法，所述方法包括以下步骤：(a)提供pH在4.1到6.9的范围内的水性沉积浴，所述浴包含：‑三价铬离子，‑甲酸根离子，和‑任选硫酸根离子，(b)提供至少一个基板和至少一个阳极，(c)将所述至少一个基板浸渍于所述水性沉积浴中并施加电流使得所述铬或铬合金层沉积于所述基板上，所述基板为阴极，其中，若在步骤(c)期间或之后，所述三价铬离子具有低于三价铬离子的目标浓度的浓度，则(d)将经溶解的甲酸三价铬添加到所述水性沉积浴使得三价铬离子以比步骤(d)
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113166961 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 201980081806.9 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限
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