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本发明公开了一种单元随机分布的全介质多带太赫兹超材料吸收器,包括衬底层和结构层,衬底层和结构层为一体的高掺杂硅材料,结构层上均匀划分有若干网格,网格内均设置有若干刻蚀单元。具有能够在不同单元排布下保持稳定的吸收光谱特性,且吸收率高、吸收频点多,高品质因子的特点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113161760 B
(45)授权公告日 2022.08.02
(21)申请号 202110234078.X G02B 5/00 (2006.01)
(22)申请日 2021.03.
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