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- 2023-06-15 发布于四川
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本申请公开了一种微机电传感器的背腔的制造方法,该背腔的制造方法包括:采用第一Bosch工艺在衬底中形成凹槽,第一Bosch工艺包括向衬底多次交替输送刻蚀气体与保护气体,衬底具有相对的正面与背面,凹槽自衬底的背面延伸至衬底中;以及采用第二Bosch工艺将凹槽继续延伸至衬底的正面,以形成贯穿衬底的背腔,第二Bosch工艺包括对衬底多次交替的输送刻蚀气体与保护气体,其中,第一Bosch工艺在向衬底输送刻蚀气体的阶段内对衬底的刻蚀速率高于第二Bosch工艺在向衬底输送刻蚀气体的阶段内对衬底的刻蚀速率。该
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113200511 A
(43)申请公布日 2021.08.03
(21)申请号 202110367160.X
(22)申请日 2021.04.06
(71)申请人 杭州士兰集昕微电子有限公司
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