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本申请实施例公开了一种无氟蚀刻剂及其蚀刻方法。无氟蚀刻剂按重量百分比包括:1wt%‑25wt%的过氧化氢;0.01wt%‑3wt%的蚀刻稳定剂;1wt%‑20wt%的蚀刻抑制剂;0.01wt%‑4wt%的pH调节剂;1wt%‑10wt%的辅助氧化剂;0.01wt%‑0.8wt%的蚀刻添加剂;以及其余为去离子水。所述无氟蚀刻剂蚀刻稳定,不含有氟,不会对玻璃基板产生破坏,而且容易进行废水回收,更重要的是解决了铜/钼蚀刻过程中产生的金属钼残留现象,可以得到较好的图案化的金属层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113186531 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110367610.5
(22)申请日 2021.04.06
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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