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- 2023-06-15 发布于四川
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本发明公开了一种用于降低硅片表面微划伤的抛光液，包括如下重量份的组分：磨料10份‑30份；磷脂1份‑8份；氧化剂0.1份‑1份；助氧化剂0.01份‑0.05份；表面活性剂0.1份‑1份；pH值调节剂0.01份‑3份；水80份‑100份；其中，所述磨料为以铝包覆硅的包覆型复合磨料。本发明的包覆型复合磨料综合了氧化铝和氧化硅磨料的优缺点，扬长避短，使得该磨料在水相中易分散，形成的胶体体系稳定不易沉降，并且其在化学机械抛光的应用中具有抛光速率快、表面粗糙度低等优点，再配合磷脂、氧化剂等材料的特点，使硅
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113150696 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202110226555.8
(22)申请日 2021.03.01
(71)申请人 广州凌玮科技股份有限公司
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