纯水处理系统流程及施工要点.pptVIP

（优选）纯水处理系统流程及施工要点 目前一页\总数二十九页\编于十点 20世纪70年代以来，美国科技界为了研制超纯材料（半导体元件材料、纳米精细陶瓷材料等），最早提出并制备了纯水。 纯水可定义为：运用过滤、脱碳除盐、离子交换、紫外线杀菌、超滤等技术，去除自然水体中的悬浮物、溶解物、细菌等杂质后制备的水，其特点是除水分子外，其他物质的含量为ppm级或ppb级。 随着电子业、生物制药业的不断发展，纯水的应用领域越来越广泛。 1.1. 概念 目前二页\总数二十九页\编于十点 1.2.原水水质指标、纯水水质标准 序号 名称 单位 序号 名称 单位 1 温度 摄氏度 8 重碳酸根 毫克/升 2 色度 度 9 氯离子 毫克/升 3 浊度 度 10 硫酸根 毫克/升 4 硬度 毫克/升 11 钙离子 毫克/升 5 碱度 毫克/升 12 镁离子 毫克/升 6 电导率 微西门子/厘米 13 总铁 毫克/升 7 PH值 　 14 总有机碳 毫克/升 常规原水水质监测指标 目前三页\总数二十九页\编于十点 指标项目 单位 指标值 项目 单位 指标值 线宽 μm 0.5～0.25 铵 μg/L 0.1 电阻率 25℃ 18.2 溴化物 μg/L 0.05 内毒素 EU/Ml 0.03 氯化物 μg/L 0.05 总有机碳 μg/L 2 氟化物 μg/L 0.05 溶解氧 μg/L 1 硝酸盐 μg/L 0.05 蒸发残余物 μg/L 0.5 亚硝酸盐 μg/L 0.05 显微镜测微粒 L 磷酸盐 μg/L 0.05 0.1～0.2 1000 铝 μg/L 0.02 0.2～0.5 500 钡 μg/L 0.02 0.5～0.1 50 硼 μg/L 0.02 在线测微粒 L 铬 μg/L 0.02 0.05～0.1 500 铜 μg/L 0.02 0.1～0.2 300 铁 μg/L 0.02 0.2～0.3 50 铅 μg/L 0.02 0.3～0.5 20 锂 μg/L 0.02 0.5 4 镁 μg/L 0.02 细菌 100mL样品 1 锰 μg/L 0.02 1L样品 1 镍 μg/L 0.02 总硅 μg/L 0.5 钠 μg/L 0.02 溶硅 μg/L 0.1 锶 μg/L 0.02 钙 μg/L 0.02 钾 μg/L 0.02 锌 μg/L 0.02 硫酸盐 μg/L 0.05 美国计量测试学会纯水水质标准（ASTMD5127-99） 目前四页\总数二十九页\编于十点 目 级别 比电阻 MΩ.cm@25℃ 硅 ≤ μg/L 1μm 微粒数 个/ml 细菌 个数 个/ml 铜 ≤ μg/L 锌 ≤ μg/L 镍 ≤ μg/L 钠 ≤ μg/L 钾 ≤ μg/L 氧 ≤ μg/L 硝酸根 ≤ μg/L 磷酸根 ≤ μg/L 硫酸根 ≤ μg/L 总有 机碳 ≤ μg/L EW-Ⅰ 18（95%的时间不低于17） 2 0.1 0.001 0.2 0.2 0.1 0.5 0.5 1 1 1 1 20 EW-Ⅱ 15（95%的时间不低于13） 10 5 0.1 1 1 1 2 2 1 1 1 1 100 国标GB/T11446.1-1997，EW-Ⅱ标准 国标GB/T11446.1-1997，EW-Ⅰ标准 目前五页\总数二十九页\编于十点 指标项目 单位 指标值 电阻率 MΩ.cm@25℃ 18 微粒数 个/ml （1μm） 10 细菌个数 个/100ml 5 总有机碳 μg/L 30 溶解氧 μg/L 50 总硅 μg/L 5 Na/K μg/L 0.5 Cu μg/L 0.5 Fe/Zn μg/L 1 Cl μg/L 1 液晶显示器件（TFT-LCD）项目超纯水水质指标 目前六页\总数二十九页\编于十点 1.3 工艺原理 物理反应：过滤、超滤 化学反应：吸附、电渗析、反渗透、离子交换 目前七页\总数二十九页\编于十点 1.4 典型工艺流程 目前八页\总数二十九页\编于十点 预处理系统(Pre-treatment System)： 砂滤、碳滤、阳床、阴床、脱碳酸塔、热交换器 制程系统(Make-up System)： 紫外线杀菌、保安过滤器、一级反渗透系统、二级反渗透、混床（电渗析系统） 抛光系统(Polishing System)： 热交换器、紫外线杀菌、抛光混床、超滤、膜脱气 循环系统(Distribution System) ： 加药系统(Chemical System)： HCl、NaOH、NaClO