防腐蚀的ITO导电膜及其制备方法.pdfVIP

下载本文档

16
0
约5.67千字
约 6页
2023-06-16 发布于四川
举报
版权申诉

防腐蚀的ITO导电膜及其制备方法.pdf

1、本文档共6页，其中可免费阅读5页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明公开了一种防腐蚀的ITO导电膜及其制备方法，包括基材层，还包括通过涂布工艺涂设在所述基材层的一面上的树脂阻挡层，通过磁控溅射工艺镀设在所述树脂阻挡层上的光匹配打底层，通过磁控溅射工艺镀设在所述光匹配打底层上的ITO导电层和通过磁控溅射工艺镀设在所述ITO导电层上的阻挡封盖层，所述树脂阻挡层的折射率为1.6‑1.7，厚度为700‑1000nm，所述光匹配打底层的折射率为1.4‑1.5，厚度为5‑15nm，所述阻挡封盖层的折射率为1.4‑2.4，厚度为1‑15nm。光学性能优异，起到较好的阻水

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113241213 A (43)申请公布日 2021.08.10 (21)申请号 202110637777.9 (22)申请日 2021.06.08 (71)申请人江苏日久光电股份有限公司