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本申请公开了一种用于PVT法制备晶体的反应器组件,属于半导体材料制备领域。该反应器组件包括:反应腔,所述反应腔包括原料腔和废料腔,所述废料腔的底端低于所述原料腔的底端;加热机构,所述加热机构套设在所述原料腔外侧,用于加热所述原料腔;长晶腔,所述长晶腔与所述原料腔通过气相传输通道连通,所述原料腔内的原料升华产生的原料气通过气相传输通道传输至所述长晶腔内的籽晶处长晶;平推流机构,所述平推流机构将所述原料腔内长晶过程中产生的废料移动至所述废料腔。本反应器组件能够及时将废料移动至废料腔,提高原料的升华速
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113215654 B
(45)授权公告日 2022.04.12
(21)申请号 202110482795.4 审查员 王红
(22)申请日 2021.04.30
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