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- 2023-06-17 发布于四川
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揭示一种半导体晶粒及形成扇出型集成结构的方法。此半导体晶粒包括接合衬垫及形成在接合衬垫中的孔、形成在接合衬垫的一部分之上的钝化层,及形成在接合衬垫中的孔之上的保护层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113284873 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110413510.1 H01L 21/66 (2006.01)
(22)申请日 2
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