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- 2023-06-17 发布于四川
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本发明公开了一种抗日晒光学胶膜及其制备方法，包括：基材胶膜；涂布于基材胶膜两侧的抗UV胶层。其制备方法包括：对基材胶膜进行预处理；将抗UV胶层的基材原料溶解混合形成抗UV胶液；将抗UV胶液涂布在预处理后的基材胶膜的两侧面上，固化后基材胶膜的表面形成抗UV胶层，得到抗日晒光学胶；且相较于传统的UV阻隔剂混入薄膜粒子原料的形式，涂布形式的工艺更加的便于加工生产；且将抗UV层与胶层结合的形式使得在加工生产的过程中只需要进行一次涂布工序就可以直接生产出具有防蓝光功能及具有附着力的抗日晒光学胶，有效减少加
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113278182 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110378406.3
(22)申请日 2021.04.08
(71)申请人 九五防护科技（东莞）有限公司
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