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- 2023-06-17 发布于四川
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本发明公开了一种增强Mie散射的单层辐射制冷薄膜，包括基体，基体内部均匀分布有第一散射体与第二散射体，第一散射体为可侵入散射体，第二散射体为固态，第二散射体部分侵入到第一散射体内，形成散射体界面。本发明的有益效果：通过引入第二散射体，增加了散射系数，形成了散射体界面，进而形成增强的Mie散射，降低了依靠散射的辐射制冷器的厚度依赖性，使用成本降低，光学性能提高，避免了因为膜层过厚，应力不均匀形成的膜层卷曲现象，提升便利性和可靠性，第二散射体和两种散射体间所形成的界面是人工添加形成的，具有大小和体积
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113280528 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110204918.8
(22)申请日 2021.02.24
(71)申请人 苏州大学
地址 21
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