原创力文档- 8
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- 2023-06-19 发布于四川
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本发明公开了一种用于真空环境下测量光学元件面形的装置及方法，装置包括真空腔体、调节单元、真空测量单元和面形测量单元，真空腔体用于及安装调节单元和光学元件，并提供真空环境；调节单元用于安装光学元件，以及实现测试元件的水平移动和俯仰调节；光学元件包含参考反射镜和待测光学元件，参考反射镜用于提供高质量的面形参考，待测光学元件是需要被测量的光学元件；真空测量单元用于测量真空腔体的真空度；面形测量单元用于测量激光波前。该装置可以对安装在真空环境中的光学元件面形进行测量，并且可以改变真空腔体的压强，在不同压
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113281013 B
(45)授权公告日 2022.08.05
(21)申请号 202110573545.1 CN 110181334 A,2019.08.30
(22)申请日 20
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