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本发明公开了一种半导体晶圆打磨清洗装置,属于晶圆打磨领域。一种半导体晶圆打磨清洗装置,包括工作主体,所述工作主体上端连接有清洗箱,所述工作主体下端连接有水箱,所述清洗箱内转动连接有第一放置件,所述第一放置件内滑动连接有多组晶圆主体,所述第一放置件上滑动连接有第二放置件,所述第二放置件上靠近第一放置件的一侧连接有固定块,所述第一放置件上滑动连接有多组固定销;本发明中通过第一放置件、第二放置件、固定销方便了将本晶圆主体放置安全,方便进行清洗,通过驱动电机、转动主轴方便了使晶圆主体转动,通过转动凸轮、
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113290466 A
(43)申请公布日 2021.08.24
(21)申请号 202110455589.4
(22)申请日 2021.04.26
(71)申请人 高兵
地址 4270
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